存储器市场近期迎来显著回暖，力积电顺势宣布正式启动DRAM制程工艺提升计划。此前，该公司已与美光科技签署战略合作协议，此次升级旨在满足下游存储器IC设计客户对高容量、高速度DRAM产品的迫切需求，同时抓住市场供需缺口带来的发展机遇。
力积电新竹12英寸晶圆厂目前具备月产5万片存储器芯片的产能规模，主要采用2x纳米制程技术，为全球客户提供DRAM和Flash代工服务。随着全球AI算力需求的爆发式增长，DRAM市场持续呈现供不应求的态势，客户订单量迅猛增加，这成为推动力积电加速存储器产线技术升级的重要动力。
为提升DRAM制程工艺，力积电董事会已通过增资案，计划投资新设备以增强产能。配合此前铜锣厂售予美光的策略合作，双方预计在第二季度签订相关合约。待2026年度股东常会批准后，力积电将根据经营团队的规划，迅速启动设备采购作业，对P3厂现有月产逾3万片的DRAM生产线进行升级改造。
