据行业消息，英特尔在先进制程领域迈出关键一步，已率先将High-NA极紫外光刻技术应用于18A制程的Panther Lake处理器量产。与之形成对比的是，三星电子虽已部署两台该类型设备，却暂未启动规模化生产，其商业化进程仍处于停滞状态。
公开资料显示，三星自去年起持续加码高端光刻设备布局，先是在华城半导体工厂安装首台High-NA EUV光刻机，今年上半年又追加第二台设备。这两轮投资总额突破1万亿韩元，按当前汇率折合人民币约45.57亿元。尽管硬件设施已就位，但三星至今未将相关设备投入实际生产环节。
财务压力被认为是制约三星量产决策的核心因素。自2022年以来，其晶圆代工业务持续处于亏损状态，虽然有市场分析机构预测该业务最快将在今年第四季度实现扭亏，但在盈利拐点来临前，三星显然不愿承担新增的巨额运营成本。据测算，启用High-NA EUV设备将使单位芯片制造成本显著上升，这对尚未摆脱亏损的业务板块构成沉重负担。
技术层面，三星2nm制程已取得实质性突破。内部测试数据显示，其第二代GAA晶体管架构的良品率已攀升至55%，接近行业公认的60%量产门槛。半导体设备供应商透露，以当前良率水平完全具备部署新设备的条件，但三星仍选择保持战略定力。
行业观察人士指出，三星的保守策略源于对市场风险的审慎评估。在获得更多头部客户订单保障、确保盈利能力持续改善之前，该公司倾向于维持现有资本支出规模。这种策略虽然延缓了技术迭代速度，但有助于避免因盲目扩产导致的财务波动，为后续竞争保留战略回旋空间。
