【ITBEAR】TechInsights最近的分析揭示，ASML的EUV光刻机功耗惊人。据悉，0.33 NA型号的功耗已达1170千瓦，而更先进的0.55 NA（High NA）型号预计将飙升至1400千瓦，这相当于约1000台满载电火锅的能耗。
随着EUV技术的普及，其对能源的需求也日益凸显。据统计，目前有31家晶圆厂采用这项技术，预计到2030年将激增至59家。而EUV光刻设备的数量，预计将增长超过一倍。
这一增长趋势意味着，到2030年，全球EUV光刻机的电力消耗将达到惊人的6100吉瓦时。这一数字与卢森堡和柬埔寨两国2020年的总用电量相当。值得注意的是，在半导体晶圆厂中，EUV光刻机的用电量仅占总用电量的11%左右。其他工艺设备和HVAC系统同样产生了巨大的能源消耗。
当前，半导体行业正面临重大抉择。一方面，EUV光刻技术在推动创新和满足先进芯片需求方面发挥着关键作用；另一方面，该技术带来的能源负担也不容忽视。
分析机构指出，随着技术的不断进步和市场的持续扩张，半导体行业需要在保持创新的同时，积极探索节能减排的解决方案，以实现可持续发展。
