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艾森股份电镀液规模化放量、光刻胶批量落地,产能建设稳步推进引关注

时间:2026-09-17 10:54:48来源:互联网编辑:快讯

半导体材料领域传来新动态,艾森股份(688720.SH)凭借在电镀液和光刻胶两大核心业务上的突破,引发市场广泛关注。作为国内电镀液龙头企业,该公司正加速推进产品从技术突破向规模化量产的转型,同时在高端光刻胶领域构建起全场景产业化能力。

在电镀液业务方面,艾森股份已实现关键技术节点突破。其28nm大马士革镀铜添加剂和超高纯硫酸钴基液已在头部晶圆厂进入量产阶段,TGV镀铜添加剂正配合玻璃基板客户进行测试验证。这一进展标志着公司先进制程电镀液业务从单点技术突破迈向规模化量产阶段。从行业格局看,国内半导体材料市场呈现结构性分化特征:8英寸晶圆和40nm以上成熟制程产能持续释放,而14nm及以下先进逻辑制程、高端HBM存储等领域仍存在显著供需缺口。公司作为国内少数具备先进制程电镀液量产经验的企业,正加速向晶圆制造客户导入产品。

光刻胶业务成为公司第二增长极。经过近十年布局,艾森股份已形成覆盖Bumping、RDL、TSV等先进封装核心工艺环节的产品矩阵,产品涵盖负性光刻胶、低温PSPI、高端光刻胶等品类。其中,负性光刻胶已获得玻璃基封装头部客户量产订单,低温PSPI处于客户端小批量生产阶段,高端光刻胶完成全流程验证并实现批量供货。技术迭代方面,公司重点推进永久绝缘PSPI、厚膜负性光刻胶、RDL工艺光刻胶等产品的研发,同时布局封装KrF/ArF光刻胶领域。通过再融资募投项目,公司正在推进先进封装光刻胶、PSPI等核心产品的产能建设。

产能布局方面,公司构建起"国内+海外"双轮驱动模式。南通基地年产12000吨半导体专用材料项目已全面投产,当前正处于产能利用率爬坡阶段,可满足至2028年的市场需求。华东制造基地分两期建设,一期预计2028年投产,二期将于2030年投产,整体项目2035年全面达产。东南亚制造中心按计划推进,主要生产湿电子化学品,建成后将服务当地国际半导体客户,实现本地化生产与全球化供应的协同。

市场分析机构指出,艾森股份在存储领域的技术突破具有战略意义。银河证券认为,公司光刻材料和电镀液产品在存储市场的应用空间广阔,且技术可迁移性强,有望持续保持高增长态势。当前公司已形成"电镀液+光刻胶"双主业发展格局,产品矩阵覆盖半导体制造多个关键环节,在先进封装材料国产化进程中占据有利位置。

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