一批全自动双面对准光刻设备已从江苏海思（HISIGK）厂区启运。这家装备制造商对外确认，出仓机型全部通过出厂前的调校工序，接收方来自三个不同赛道——日本的MEMS制造企业、AR光波导细分领域的领军公司，以及一家LED芯片厂商。
公司方面介绍，11月正值其设备集中出库的时段，本批机器合计14台，规格横跨12寸、8寸与6寸三类晶圆平台。
在技术路线上，江苏海思并未切入以EUV为代表的先进制程装备竞争，而是长期立足接近式与接触式光刻领域。三种尺寸的双面对准机型此次同批交付，使国内微纳光学及MEMS产线在设备选型时多出一类国产选项，相关工艺环节可据此减少对进口高端器材的倚重。
12寸设备构成本次出货的主体，数量为5台。其中3台选配了FOUP天车自动上料方案，能够与12寸晶圆量产线直接衔接，上片、对准、曝光、下片各工序之间无需人工搬运，形成完整的无人化作业链条。该机型面向超表面光学、硅基微透镜以及AR光波导等器件，用以满足其双面套刻精度方面的工艺要求。
8寸机型本批发运4台，属双面自动对准类型，主要布置在MEMS传感器与微流控器件的生产线上，承担相应制程中的曝光环节。
6寸全自动光刻机同样有5台离厂，应用方向锁定氮化镓、碳化硅等化合物半导体材料，同时兼顾LED芯片和功率器件的制造需求。在曝光均匀性以及良率管控两项指标上，这款设备的表现在同类产品中较为突出。
